光刻膠也稱光致抗蝕劑（Photoresist,P.R.）,。 1.光刻膠類型 凡是在能量束（光束、電子束,、離子束等）的照射下,，以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為負(fù)性光刻膠,，簡稱負(fù)膠。 凡是在能量束（光束,、電子束,、離子束等）的照射下，以交聯(lián)反應(yīng)為主的光刻膠稱為正性光刻膠,，簡稱正膠,。
1.光刻膠特性 靈敏度 靈敏度太低會(huì)影響生產(chǎn)效率，所以通常希望光刻膠有較高的靈敏度,。但靈敏度太高會(huì)影響分辨率,。通常負(fù)膠的靈敏度高于正膠。 分辨率 光刻工藝中影響分辨率的因素有：光源,、曝光方式和光刻膠本身（包括靈敏度,、對比度、顆粒大小,、顯影時(shí)的溶脹,、電子散射等）。通常正膠的分辨率要高于負(fù)膠,。 2.光刻膠材料 光刻膠通常有三種成分：感光化合物,、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時(shí)還包括增感劑,。 3.1負(fù)性光刻膠 主要有聚肉桂酸系（聚酯膠）和環(huán)化橡膠系兩大類,。 3.2正性光刻膠 主要以重氮醌為感光化合物，以酚醛樹脂為基體材料,。最常用的有AZ 系列光刻膠,。正膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高，缺點(diǎn)是靈敏度,、耐刻蝕性和附著性等較差,。 3.3 負(fù)性電子束光刻膠 為含有環(huán)氧基、乙烯基或環(huán)硫化物的聚合物,。 3.4 正性電子束光刻膠 主要為甲基丙烯甲酯,、烯砜和重氮類這三種聚合物。最常用的是PMMA膠,。PMMA膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高,。主要缺點(diǎn)是靈敏度低，在高溫下易流動(dòng),，耐干法刻蝕性差,。 3.雙層光刻膠技術(shù) 隨著線條寬度的不斷縮小，為了防止膠上圖形出現(xiàn)太大的深寬比,，提高對比度,，應(yīng)該采用很薄的光刻膠。但薄膠會(huì)遇到耐蝕性的問題,。由此出現(xiàn)了雙層光刻膠技術(shù),，也就是超分辨率技術(shù)的組成部分。 |
